Nghiên cứu sinh Khoa Vật lý giành học bổng Sylff với nghiên cứu tìm ra vật liệu làm mát bề mặt không tiêu hao năng lượng

Nghiên cứu sinh Khoa Vật lý giành học bổng Sylff với nghiên cứu tìm ra vật liệu làm mát bề mặt không tiêu hao năng lượng

Phạm Thị Hồng – là cựu sinh viên cựu sinh viên Khoa Vật lý – nghiên cứu sinh (NCS) ngành Vật lý chất rắn, Trường ĐH Khoa học Tự nhiên, ĐHQGHN là một trong hai NCS được trao học bổng của Quỹ học bổng lãnh đạo trẻ Ryoichi Sasakawa, Nhật Bản (Sylff) năm học 2023 – 2024.

Phạm Thị Hồng và các cộng sự đã thực hiện đề tài: “Nghiên cứu hiệu ứng làm mát bức xạ sử dụng vật liệu thuần điện môi định hướng ứng dụng” với mục đích tìm ra vật liệu làm mát bề mặt mà không tiêu hao năng lượng, từ đó giúp giảm tiêu thụ điện năng cho việc làm mát không khí, giảm lượng khí thải CO2 trong môi trường do thiết bị làm mát gây ra và tạo môi trường mát cho mọi người trong mùa hè.Trong hai năm nghiên cứu đề tài này, nhóm nghiên cứu của Hồng đã thành công với các sản phẩm làm mát thụ động dựa trên các hạt có kích thước khác nhau trộn trong nền nhựa acrylic. Nó có khả năng phản xạ hoàn toàn đến 98% năng lượng bức xạ mặt trời chiếu đến trong vùng bước sóng từ 0.3 – 2.5 μm và bức xạ chọn lọc đến 93% trong vùng trong suốt của khí quyển trong vùng bước sóng từ 8 – 13 μm. Do đó, nhiệt độ bề mặt được phủ lớp làm mát thụ động xấp xỉ bằng nhiệt độ bóng râm vào ban ngày và thấp hơn nhiệt độ không khí từ 2 –8o C vào ban đêm.

Đề tài của Phạm Thị Hồng được Quỹ Nippon, Nhật Bản và ĐHQGHN đánh giá là có tính ứng dụng cao, hứa hẹn đóng góp cho giải quyết các vấn đề xã hội như sinh kế, bảo vệ môi trường, phát triển bền vững cho không chỉ Việt Nam mà còn cho thế giới, phù hợp với triết lý và mục tiêu của Học bổng Sylff và Quỹ Nippon cũng như thỏa thuận giữa Quỹ Nippon, Quỹ Tokyo và ĐHQGHN.

Bài viết liên quan